某半导体技术生产制造企业的因晶圆清洁工艺程序呈现含氨废水加工处理方法，排水量200吨/天。废水加工处理方法中除氯离子外还包含有氟化物和氢化物发生器高价属，加工处理难度系数大。本县直接排放细则条件氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理含量及种类 晶圆清洁污水（具体来源于）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀道工序废水处理方法：含少量铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP研磨抛光生活污水：含硅小粒及化学需氧量 除理技艺环节 运用"化学物质结晶+膜隔离+折点氯化"組合加工制作工艺 ： 预备处理 ：加药CaCl2除氟，掌握pH在7.5-8. 超滤膜软件系统 ：快速清理0.01μm综上所述粒子物 反进行渗透萃取 ：将氯离子提液至1000mg/L及以上 折点氯化 ：高精度掌控氯添加量，将挥发酚和转化了为氢气 亚铁离子变换 ：服务巨资属及格 以后效率 高锰酸盐指数不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含量的降至检验限 水回收利用率达75% 飞灰所产生量降低40%